发布时间:2021-09-24 浏览量:次
报告题目:超精密加工——磁场辅助抛光
报告人:冯铭 十大赌博老品牌网站 博士
报告时间:2021年 09月29 日(周三)下午13:30
报告地点:学术报告厅6B309
报告摘要:
航空、5G通讯、半导体以及光学等高端制造领域内的产品,往往需要非常高的加工精度和表面质量,以保证产品性能,提高服役时间。针对这类产品,如:涡轮发动机叶片(复杂面型),半导体基底(超薄片,原子级表面粗糙度,近无损伤表面),光学反射镜(高形状精度,表面质量)等都需要进行超精密加工来达到目标精度。因此,超精密加工技术是决定产品质量的关键所在。
超精密加工技术从利用单一的物理场或化学场进行减材,逐渐向多场辅助或多场协同减材发展。此次报告将介绍超精密加工技术的发展历史,并将磁场辅助抛光作为研究成果展示,以此深入理解超精密加工技术的理论与实践意义,感受超精密加工技术的科学性。
报告人简介:
冯铭,男,1988年生,于2020年4月在日本秋田県立大学获工学博士学位,同年9月进入十大赌博老品牌网站担任讲师,期间在南方科技大学机械与能源工程系进行学术访问。主要从事硅、碳化硅等半导体材料、蓝宝石、氧化锆陶瓷、增材制造钛合金人工假体等高效超精密抛光技术与装备开发,光学系统透镜与反射镜超精密加工技术与装备开发。参与国家自然科学基金1项,参与深圳市国际合作课题1项(日方负责人),已在国内外杂志上发表相关科技论文20余篇,其中以第一作者发表SCI/EI 期刊论文8篇,授权发明专利3项。